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Coauteurs
Mansour ShayeganProfessor of Electrical Engineering, Princeton UniversityAdresse e-mail validée de princeton.edu
Babak FallahazadIntel CorporationAdresse e-mail validée de intel.com
Kyounghwan KimAppleAdresse e-mail validée de utexas.edu
Seyoung KimPOSTECH, South KoreaAdresse e-mail validée de postech.ac.kr
Junghyo NahProfessor, Dept. of Electrical Engineering, Chungnam National UniversityAdresse e-mail validée de cnu.ac.kr
Kenji WatanabeNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
Luigi ColomboUniversity of Texas at DallasAdresse e-mail validée de utdallas.edu
Hema C. P. MovvaIntel CorporationAdresse e-mail validée de intel.com
Allan H. MacDonaldUniversity of Texas Austin, Indiana University, NRC Canada, U of TorontoAdresse e-mail validée de physics.utexas.edu
Stefano LarentisFA Engineer @ NXP SemiconductorsAdresse e-mail validée de utexas.edu
T.TaniguchiNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
Leonard F. RegisterProfessor of Electrical and Computer EngineeringAdresse e-mail validée de austin.utexas.edu
Christopher M CorbetUniversity of Texas at AustinAdresse e-mail validée de fenwick.com
Kayoung LeeKAISTAdresse e-mail validée de kaist.ac.kr
Rodney RuoffThe IBS CMCM, Dept. of Chemistry, Dept. of MS&ESchool of Energy and ChEng,Adresse e-mail validée de unist.ac.kr
Davood ShahrjerdiNew York UniversityAdresse e-mail validée de nyu.edu
Amritesh RaiFront End Process Integration Engineer @ Intel ▪ UT Austin ▪ Ohio StateAdresse e-mail validée de utexas.edu
Sangwoo KangIntel CorporationAdresse e-mail validée de intel.com
G William BurgAppleAdresse e-mail validée de utexas.edu
David C DillenUniversity of Texas at AustinAdresse e-mail validée de utexas.edu
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Emanuel Tutuc
Professor, The University of Texas at Austin
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