Obtenir mon propre profil
Citée par
Toutes | Depuis 2019 | |
---|---|---|
Citations | 10697 | 6342 |
indice h | 46 | 30 |
indice i10 | 151 | 81 |
Accès public
Tout afficher7 articles
0 article
disponibles
non disponibles
Sur la base des exigences liées au financement
Coauteurs
- Jason KenneyApplied MaterialsAdresse e-mail validée de amat.com
- Ken CollinsVice President of Engineering and Fellow at Applied MaterialsAdresse e-mail validée de amat.com
- Mark J. KushnerUniversity of MichiganAdresse e-mail validée de umich.edu
- Leonid DorfApplied MaterialsAdresse e-mail validée de amat.com
- Samer BannaTechnion, Israel Institute of Technology, Applied MaterialsAdresse e-mail validée de amat.com
- Mingfeng WuZenStone Venture CapitalAdresse e-mail validée de utexas.edu
- Jun-Chieh WangApplied Materials, University of MichiganAdresse e-mail validée de umich.edu
- Julian SchulzeProfessor (Ruhr-University Bochum)Adresse e-mail validée de aept.rub.de
- S. Samukawa, Seiji SamukawaInstitute of Fluid Science and Advanced Institute for Material Research, Tohoku UniversityAdresse e-mail validée de ifs.tohoku.ac.jp
- Thorsten LillClarycon Nanotechnology ResearchAdresse e-mail validée de claryconresearch.com
- Igor KaganovichPrinceton University, Princeton Plasma Physics LaboratoryAdresse e-mail validée de pppl.gov
- Syed M. AlamEverspin Technologies, Inc.Adresse e-mail validée de alum.mit.edu
- David R. BorisResearch Physicist, U. S. Naval Research LaboratoryAdresse e-mail validée de nrl.navy.mil
- Scott G WaltonNaval Research LaboratoryAdresse e-mail validée de nrl.navy.mil
- Prof. Dr. Marius OrlowskiVirginia Tech, Bradly Department of Electrical and Computer EngineeeringAdresse e-mail validée de vt.edu
- Ken HaraStanford UniversityAdresse e-mail validée de stanford.edu
- Aaron TheanNational University of SingaporeAdresse e-mail validée de nus.edu.sg
- Amr HaggagDistinguished Technical Staff, Corporate Quality, Freescale SemiconductorAdresse e-mail validée de freescale.com