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indice h | 32 | 20 |
indice i10 | 66 | 35 |
Coauteurs
Yongfeng MeiFudan UniversityAdresse e-mail validée de fudan.edu.cn
Paul K ChuChair Professor of Materials Engineering, City University of Hong KongAdresse e-mail validée de cityu.edu.hk
Oliver G SchmidtDirector, Institute for Integrative Nanosciences, Leibniz IFW Dresden and TU ChemnitzAdresse e-mail validée de ifw-dresden.de
Yang liwenFaculty of Materials and Optoelectronic Physics, Xiangtan UniversityAdresse e-mail validée de xtu.edu.cn
Fei DingAdresse e-mail validée de umich.edu
Yingchun Cheng (程迎春)Nanjing Tech UniversityAdresse e-mail validée de njtech.edu.cn
Jinxing LiStanford University, UC San DiegoAdresse e-mail validée de stanford.edu
Ricky FuPlasma Technology Limited / City University of Hong KongAdresse e-mail validée de cityu.edu.hk
Tianrong ZhanAdresse e-mail validée de udel.edu
Armando RastelliProfessor of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University LinzAdresse e-mail validée de jku.at
Stefan M. HarazimGLOBALFOUNDRIES Dresden Module One LLC & Co KG
GaoShan Huang
Associate Professor, Fudan University
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