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Coauteurs
- Gadi EisensteinTechnion - Israel Institute of TechnologyAdresse e-mail validée de technion.ac.il
- Johann Peter ReithmaierInstitute of Nanostructure Technologies and Analytics (INA), University of KasselAdresse e-mail validée de ina.uni-kassel.de
- Tony F HeinzDepts. of Applied Physics, Photon Science, and, by courtesy, of Electrical Eng., SLAC, StanfordAdresse e-mail validée de stanford.edu
- Amir CapuaAssistant Professor, Hebrew UniversityAdresse e-mail validée de mail.huji.ac.il
- Elyse BarréLawrence Berkeley National LaboratoryAdresse e-mail validée de lbl.gov
- Bumho KimUniversity of PennsylvaniaAdresse e-mail validée de sas.upenn.edu
- Aidan Luke O'BeirneStanford UniversityAdresse e-mail validée de stanford.edu
- Akhilesh Kumar MishraIndian Institute of Technology Roorkee, IndiaAdresse e-mail validée de ph.iitr.ac.in
- Henrique Bucker RibeiroSenior research scientist at Corning Inc.Adresse e-mail validée de corning.com
- Eric Yue MaAssistant Professor of Physics & EECS, UC BerkeleyAdresse e-mail validée de berkeley.edu
- Felipe H. da JornadaDepartment of Materials Science and Engineering, Stanford UniversityAdresse e-mail validée de stanford.edu
- T.TaniguchiNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
- Kenji WatanabeNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
- Sze Cheung LauStanford UniversityAdresse e-mail validée de stanford.edu
- Vitalii SichkovskyiInstitute of Nanostructure Technologies and Analytics, University of KasselAdresse e-mail validée de uni-kassel.de
- Emma C. ReganAdresse e-mail validée de berkeley.edu
- Chenhao JinUC Santa BarbaraAdresse e-mail validée de ucsb.edu
- Feng WangUC Berkeley and LBNLAdresse e-mail validée de berkeley.edu
- Ralph H. PageUniversity of California at BerkeleyAdresse e-mail validée de stanford.edu
- Roland GillenFAU ErlangenAdresse e-mail validée de fau.de