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Coauteurs
- Aravind AsthagiriThe Ohio State UniversityAdresse e-mail validée de osu.edu
- Tao LiPh.D, Etch Process R&D Engineer at IBMAdresse e-mail validée de ufl.edu
- Minkyu KimYeungnam UniversityAdresse e-mail validée de ynu.ac.kr
- Can HakanogluPhD, University of FloridaAdresse e-mail validée de ufl.edu
- Zhu LiangUniversity of FloridaAdresse e-mail validée de ufl.edu
- Feng ZhangPh.D. and Process Engineer Manager at Applied Materials Inc.Adresse e-mail validée de ufl.edu
- Johan GustafsonLund UniversityAdresse e-mail validée de sljus.lu.se
- Henrik GrönbeckDepartment of Physics, Division of Chemical Physics and Competence Centre for Catalysis, ChalmersAdresse e-mail validée de chalmers.se
- Lindsay R. MerteAssociate Professor, Malmö UniversityAdresse e-mail validée de mau.se
- Rahul RaiUniversity of FloridaAdresse e-mail validée de ufl.edu
- Mikhail ShipilinStockholm UniversityAdresse e-mail validée de fysik.su.se
- William EplingProfesor and Chair of Chemical Engineering, University of VirginiaAdresse e-mail validée de virginia.edu
- Jau-Jiun ChenUniversity of FloridaAdresse e-mail validée de ntu.edu.tw
- Stephen PeartonProfessor of Materials Science and Engineering, University of FloridaAdresse e-mail validée de mse.ufl.edu
- Fan RenUniversity of Florida, Bell Lab, AT&TAdresse e-mail validée de che.ufl.edu
- Jin-Hao JhangYale UniversityAdresse e-mail validée de yale.edu
- Eric D. WachsmanProfessor and Director, Maryland Energy Innovation InstituteAdresse e-mail validée de umd.edu
- Anders HellmanProfessor, Physics, ChalmersAdresse e-mail validée de chalmers.se
- Jan Ingo FlegeChair of Applied Physics and Semiconductor Spectroscopy, Brandenburg University of TechnologyAdresse e-mail validée de b-tu.de
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Jason F Weaver
Professor of Chemical Engineering, University of Florida
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