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Coauteurs
- Daniel GallProfessor, Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- R. Joseph KlineNational Institute of Standards and TechnologyAdresse e-mail validée de nist.gov
- Daniel SundayNational Insitute of Standards and TechnologyAdresse e-mail validée de nist.gov
- Ferdows Zahid (ORCID:0000-0001-93...Independent University, Bangladesh (IUB)Adresse e-mail validée de iub.edu.bd
- Ruopeng DengProcess Development Engineer, Lam ResearchAdresse e-mail validée de lamresearch.com
- Sophie CazottesMateis - INSA LyonAdresse e-mail validée de insa-lyon.fr
- Gerhard DehmDirector, Max-Planck-Institut für EisenforschungAdresse e-mail validée de mpie.de
- David J. MichalakIntel CorporationAdresse e-mail validée de intel.com
- K. S. NarayanJawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific ResearchAdresse e-mail validée de jncasr.ac.in
- Dhritiman GuptaAssociate Professor, VIT UniversityAdresse e-mail validée de vit.ac.in
- Nikhil DoleSenior Panel Process Engineer, AppleAdresse e-mail validée de apple.com