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Coauteurs
- Klavs F.JensenChemical Engineering, MITAdresse e-mail validée de mit.edu
- Daniel GiammarWashington University in St. LouisAdresse e-mail validée de wustl.edu
- Gaurab samantaAir ProductsAdresse e-mail validée de airproducts.com
- Andrea AdamoResearch Affiliate, MITAdresse e-mail validée de mit.edu
- parthiv daggoluSunEdisonSemiconductor LLCAdresse e-mail validée de sunedisonsemi.com
- Jeffrey G. CatalanoWashington University in St. LouisAdresse e-mail validée de wustl.edu
- Brahim BenyahiaProfessor, Loughborough UniversityAdresse e-mail validée de lboro.ac.uk
- Richard LakerveldAssociate Professor, Hong Kong University of Science and TechnologyAdresse e-mail validée de ust.hk
- Timothy F. JamisonMITAdresse e-mail validée de mit.edu
- haitao zhangMITAdresse e-mail validée de sunovion.com
- Patrick HeiderDow ChemicalAdresse e-mail validée de dow.com
- Francesco StellacciEcole Polytechnique Fédérale de Lausanne, Institute of Materials, and Bioengineering InstituteAdresse e-mail validée de epfl.ch
- Anirban GhoshScientist, Tata Chemicals Innovation CenterAdresse e-mail validée de tatachemicals.com
- Beizhan YanLamont-Doherty Earth ObservatoryAdresse e-mail validée de ldeo.columbia.edu
- Samuel AchilefuUniversity of Texas Southwestern Medical Center, DallasAdresse e-mail validée de UTSouthwestern.edu
- Koyar S RaneProfessor of Chemistry at Goa University and Rani Chenamma UniversityAdresse e-mail validée de rcub.ac.in
- Ravinesh A. KumarDirector of Research, The University of ChicagoAdresse e-mail validée de uchicago.edu