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Coauteurs
- Takao SomeyaProfessor, Department of Electric and Electronic Engineering, The University of TokyoAdresse e-mail validée de ee.t.u-tokyo.ac.jp
- Tomoyuki YokotaUniversity of TokyoAdresse e-mail validée de ntech.t.u-tokyo.ac.jp
- Mitsuru TakenakaThe University of TokyoAdresse e-mail validée de mosfet.t.u-tokyo.ac.jp
- Shinichi TakagiThe University of TokyoAdresse e-mail validée de ee.t.u-tokyo.ac.jp
- Sanghyeon Kim, S. Kim, S.-H. Kim, S....KAIST, Korea Institute of Science and Technology (KIST), imec, The University of TokyoAdresse e-mail validée de kaist.ac.kr
- Hanbit JinETRIAdresse e-mail validée de etri.re.kr
- Naoji MatsuhisaAssociate Professor, Research Center for Advanced Science and Technology, The University of TokyoAdresse e-mail validée de iis.u-tokyo.ac.jp
- Yan Wang (王 燕)Guangdong Technion, Israel Institute of Technology; The University of Tokyo; Monash University (PhD)Adresse e-mail validée de technion.ac.il
- Kenjiro FukudaThin-Film Device Laboratory, RIKENAdresse e-mail validée de riken.go.jp
- Amir ReuvenyCornell TechAdresse e-mail validée de cornell.edu
- Takuya HoshiiTokyo Institute of TechnologyAdresse e-mail validée de m.titech.ac.jp
- Ryosho NakaneThe University of TokyoAdresse e-mail validée de cryst.t.u-tokyo.ac.jp
- Robert NawrockiAssistant Professor, Purdue UniversityAdresse e-mail validée de purdue.edu
- Wonryung LeeKorea Institute of Science and Technology (KIST)Adresse e-mail validée de kist.re.kr
- Sungjun ParkElectrical and Computer Engineering, Ajou UniversityAdresse e-mail validée de ajou.ac.kr
- Hyunjae LeeStaff Engineer, Material Development Team, Samsung Semiconductor R&D Center