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Coauteurs
- Richard D. BraatzEdwin R. Gilliland Professor, Massachusetts Institute of TechnologyAdresse e-mail validée de mit.edu
- Ivan CastilloThe Dow Chemical CompanyAdresse e-mail validée de dow.com
- Marco S. ReisDepartment of Chemical Engineering, University of CoimbraAdresse e-mail validée de eq.uc.pt
- Michael BaldeaProfessor, University of Texas at Austin; Editor in Chief, I&ECRAdresse e-mail validée de che.utexas.edu
- Birgit BraunDow Inc.Adresse e-mail validée de dow.com
- S. Joe QinLingnan University, Hong Kong, President, Member of EASA, Fellow of HKAES, NAI, IEEE, IFAC, AIChEAdresse e-mail validée de ln.edu.hk
- José A. RomagnoliCain Endowed Chair & Professor, Department of Chemical Engineering, Louisiana State UniversityAdresse e-mail validée de lsu.edu
- Christos GeorgakisLehigh University, MIT, Tufts University, University of Thessaloniki, Polytechnic UniversityAdresse e-mail validée de Tufts.edu
- Jie YuAssistant Professor of Chemical Engineering, McMaster UniversityAdresse e-mail validée de mcmaster.ca
- Zhenyu WangDow ChemicalAdresse e-mail validée de dow.com