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Coauteurs
- Kannan M KrishnanUniversity of WashingtonAdresse e-mail validée de uw.edu
- Ryan HufschmidUniversity of WashingtonAdresse e-mail validée de uw.edu
- Nigel D BrowningProfessor of Materials Science, University of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Carolyn ShashaPostdoctoral Fellow, Fred HutchAdresse e-mail validée de fredhutch.org
- Hamed AramiAssistant Professor of Materials Science at Arizona State UniversityAdresse e-mail validée de asu.edu
- R. Matthew FergusonUniversity of Washington, LodeSpin LabsAdresse e-mail validée de uw.edu
- Alyssa L TroksaLawrence Livermore National LaboratoryAdresse e-mail validée de llnl.gov
- Asahi TomitakaUniversity of Houston-VictoriaAdresse e-mail validée de uhv.edu
- Sanjiv S. GambhirProfessor of Radiology, Stanford UniversityAdresse e-mail validée de stanford.edu
- James E. EvansSenior Research Scientist, Pacific Northwest National LaboratoryAdresse e-mail validée de pnnl.gov
- B. Layla MehdiProfessor and Associate Director of Albert Crewe Centre at University of LiverpoolAdresse e-mail validée de pnnl.gov
- Ioana SlabuRWTH AachenAdresse e-mail validée de hia.rwth-aachen.de
- Ulrich M. EngelmannFH Aachen UniversityAdresse e-mail validée de fh-aachen.de
- Tobias KnoppProfessor for Biomedical Imaging, UKE and TUHH, HamburgAdresse e-mail validée de knoppweb.de
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Eric Teeman
Sr. Lithography Process Engineer at Intel
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