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Coauteurs
- Toh-Ming LuRensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- Jian ShiProfessor at Rensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- Zhizhong ChenASM America Inc., Purdue University, Rensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de purdue.edu
- Yiping WangRensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- Gwo-Ching WangRensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- Esther A. WertzAssociate Professor of Physics, Rensselaer Polytechnic InstituteAdresse e-mail validée de rpi.edu
- Hao LiUniversity of MissouriAdresse e-mail validée de missouri.edu
- Jun OuyangQilu Univ. of Technology or Hunter College or Shandong University or NIST or Univ. of MarylandAdresse e-mail validée de sdu.edu.cn
- Young Jo KimChemical Engineering, University of New HampshireAdresse e-mail validée de unh.edu